千级无尘车间管理规范 ▼标签： 千级无尘车间 环保工程 净化工程 空气净化
1. 净化工程1.目的为无尘室清洁建立规范从而保证产品的质量。
2 范围 适用于千级无尘室生产车间及进出人员、物料。
3 定义 无
4 职责 生产部：负责无尘室清洁的执行。 品质部：负责对无尘室的洁净度进行检验。 5 内容与要求
5.1 风淋室清洁：
5.1.1 每天上午和下午下班时对风淋室进行清洁，擦拭灰尘和换除尘垫。
5.1.2 进入车间时风淋时间为20秒。
5.2 无尘室清洁：
5.2.1 每天上午和下午下进时进行清洁，用吸尘器进行吸尘。
5.2.2 每三天进行一次大清洁，用湿海棉擦地面。
5.2.3 每天上午和下午上班后30分钟内生产主管进行温湿度检验并记录。
5.2.4 温度要求25±3℃；湿度要求≤65%。如达不到则进行空调调节直到合格才能生产。
5.3 洁净度检验:
5.3.1 品质部每天上午9:00前，下午14:00前用尘埃粒子测试仪进行检验并记录结果.
5.3.2如检验达不到千级要求则生产部停止生产进行清洁，直到检验OK方可生产.
5.4 人员进出:
5.4.1 人员进入前按《千级无尘室着装规范》着装.
5.4.2 所有人员从风淋室进，专用出口出，不得违规进出.
5.4.3 紧急出口只能在发生紧急情况下或运送机器时才能使用.
5.5 物料进出:
5.5.1 所有材料必须从风淋窗口进入.
5.5.2 任何容易带有或产生灰尘、纸屑的物料不得进入和使用。
6 记录及相关文件
6.1《温湿度记录表》
6.2《尘埃粒子检验记录表》
6.3《千级无尘室着装规定》
有好多人说在那工作时间长了对人身体不好，特别是对于女性有什么辐射是吗?我不是太明白?有没有哪些和我同病相怜的人啊?或者对这方面知道的比较多的人。
无尘室静电对人体的危害:人体皮肤与衣服之间以及衣服与衣服之间互相静电对人体健康不利。 由于静电能吸附大量浮尘，同时夹杂着多种致病菌，洁净室净化工程，所以可传播流感、肝炎、结核等传染病...
其工作时会产生交流电磁波，即所谓的电磁辐射...
无尘室一般是用于无尘作业、对灰尘要求很严格的生产作业地方，其只是将空气里面的灰尘过滤掉，对人体是不会有任何害处的，对女孩子来说，因为要经常穿着防尘衣服，可能会比较闷，因此可以适当涂些润肤霜之类的护肤品。
PCB厂内层无尘室里的湿度洁净是多少
相对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。
这些年里，在这些规定范围中保持处理空气过程，使我们必需承担资金和营运费用。但是为什么值得花费这么多钱用在洁净室中控制相对湿度呢？
道理很简单！因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：
细菌生长；
工作人员感到室温舒适的范围；
出现静电荷；
金属腐蚀；
水汽冷凝；
光刻的退化；
吸水性。
细菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨虫）在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至Zui1、低。
相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低于30%则会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快。
高湿度实际上减小了洁净室表面的静电荷积累──这是人们希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过 50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。
相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。
很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，珠海洁净室，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，洁净室施工，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。
在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应──凯尔文浓缩──当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。
到目前为止，在半导体洁净室中Zui迫切需要适度控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是Zui严格的。
实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1、确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，洁净室工程，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。参考两个城市，一个试验证实，相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2 A 。
此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度（约30%）使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲基二硅氮烷（HMDS）。
在半导体洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是，随着时间的变化，Zui、1好回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。
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